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Toshiba & Sandisk: produzione 20nm nel 2011

Dopo TSMC, anche le due società hanno intrapreso un enorme sviluppo.

Toshiba e Sandisk hanno pianificato insieme la costruzione di un nuovo stabilimento. La struttura, denominata Fab 5, sarà ottimizzata specificamente per la produzione di chip Flash con tecnologia a 20 nm, con l'inizio della produzione di massa prevista per l'inizio del 2011. L'area del nuovo edificio non sarà inferiore a 38.000 m2. Vogliono anche migliorare la produttività nel Fab 4, che è ancora in funzione, installando nuove attrezzature tecniche in spazi vuoti e inutilizzati.

Toshiba & Sandisk 20 mq di produzione nel 2011
La fabbrica Toshiba chiamata "Fab 4".

Toshiba e Sandisk non hanno commentato quanti soldi hanno investito nella costruzione di Fab 5 durante la cooperazione, ma all'inizio di quest'anno, Toshiba ha annunciato che avrebbe investito 3 miliardi di yen, o $ 500 miliardi, nel programma congiunto di 5,85 anni. sviluppi.

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